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2010年3月15日-并采用高純度二氧化硅代替了表面碳酸鋇涂層工藝,解決了用真空電弧涂層技術制備出不易與硅材料產生反應的耐高溫石英玻璃制品,提高了石英坩堝的熱穩定性。

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2.現代的石英坩堝現代拉單晶的石英坩堝一般是采用電弧法生產,半透明狀,是通常的做法是將石英坩堝壁涂上一層含有結晶水的氫氧化鋇(Ba(OH)2.8H2O)(。

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1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英氧化鋇溶液使其形成致密層,其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反應。

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現代的坩堝通常應用電弧法消耗,半透明狀,存在有內外兩層結構,外層是高氣泡密當石英坩堝被加熱時,碳酸鋇將會被分解造成氧化鋇,與石英坩堝反應生成硅酸鋇,而。

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